Вход |  Регистрация
 
   
 


Ранее

Семь университетов США пытаются создать квантовую память

Семь университетов США совместными усилиями пытаются определить наилучший метод создания квантовой памяти на основе взаимодействия света и вещества. На пятилетние исследования организация Air Force Office of Scientific Research выделила 8,5 млн долл.

Тепловые импульсы для записи данных с терабайтными скоростями

Международному коллективу ученых удалось разработать метод магнитной записи, которая осуществляется в 100 раз быстрее, чем позволяют современные технологии записи данных на жесткий диск.

И снова — шумный спор о мемристорах

На сайте arXiv.org, представляющем собой крупнейший архив научных статей по физике, математике, астрономии, информатике и биологии, разгорелась нешуточная дискуссия на тему о мемристоре — возможном компоненте энергонезависимой памяти будущего.

 

21 февраля 2012

Электронно-лучевая литография спешит в массы

TSMC получит один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии.

К

омпания Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC) получит в своё распоряжение один из первых предпродажных экземпляров оборудования Matrix для безмасковой электронно-лучевой литографии. Ранее TSMC уже использовала оборудование Mapper Lithography для изготовления прототипов (пробная платформа для безмасковой многолучевой литографии для пластин 300 мм).

При изготовлении схемы без шаблона травление проводится электронным лучом напрямую. Энергия пучка составляет 5 кэВ, длина волны — 0,02 нм. Разрешение получается сравнимым с разрешением оптической литографии с длиной волны 193 нм.

Matrix 10.10 – система из 10 кластеров, каждый из которых изготавливает по 10 подложек в час


Первые образцы оборудования предназначены для французской CEA-Leti и TSMC. Конечная версия системы будет генерировать 13260 электронных лучей, выпуская 10 подложек в час. В текущем году бета-версия Matrix 1.1 будет обеспечивать только 10% этой мощности. По плану следующая версия будет выдавать максимальную производительность, после чего выйдет сборка из 10 станков, способная изготавливать 100 подложек в час.

Конкретный срок поставки оборудования пока неизвестен.

В мире насчитывается всего несколько компаний, занимающихся производством оборудования для электронно-лучевой безмасковой литографии: IMS Nanofabrication (Австрия), KLA-Tencor (США) и Mapper Lithography.

Источник: EE Times

Читайте также:
Зачем разработчикам знать про литографию
Субмикронная УФ-литография появится нескоро
Ученые из Массачусетского института технологий добились 9-нм разрешения
Дискуссия о перспективах субмикронной литографии и 450-мм пластин
ередовые процессы литографии для современного микроэлектронного производства
Новый тип литографии на основе сополимеров
IBM и Toppan воспользуются иммерсионной литографией для 14-нм процесса
Цена EUV-сканера превысила 120 млн долл.
В поисках замены транзистору
Курчатовский институт опередит Intel
ASML отмечает снижение количества заказов

Оцените материал:

function AddBookmark(url, title) { if (window.sidebar) { // Mozilla Firefox Bookmark window.sidebar.addPanel(title, url, ""); } else if( window.external ) { // IE Favorite window.external.AddFavorite( url, title); } else if(window.opera && window.print) { // Opera Hotlist return true; } } --> function ShowRecommend() { d = document.getElementById('recommendDiv'); if (d) { display = d.style.display; newValue = 'none'; switch (display) { case 'none': newValue = 'block'; break; default: newValue = 'none'; break; } d.style.display = newValue; } } -->

Комментарии

0 / 0
0 / 0
function CommentsLogin(f, err) { res = Login(f.login.value, f.password.value, false); if (res) { f.submit(); } else { err.style.display = 'block'; f.password.value= ''; return false; } } -->

Прокомментировать







 
 
 




--> --> --> -->--> -->
Руководителям  |  Разработчикам  |  Технологам  |  Снабженцам
© 2007 - 2012 Бранд Дзержинск - продвижение сайтов
Создание сайта — > ®
Контакты